Лавинный фотодиод: различия между версиями

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Перейти к навигации Перейти к поиску
[непроверенная версия][отпатрулированная версия]
Содержимое удалено Содержимое добавлено
Addbot (обсуждение | вклад)
м Перемещение 12 интервики на Викиданные, d:q175932
Спасено источников — 1, отмечено мёртвыми — 0. Сообщить об ошибке. См. FAQ.) #IABot (v2.0
 
(не показано 17 промежуточных версий 14 участников)
Строка 1: Строка 1:
[[Файл:APD.png|300px|thumb|Структура лавинного фотодиода на основе кремния: 1 — омические контакты, 2 — антиотражающее покрытие]]
[[Файл:APD.png|300px|thumb|Структура лавинного фотодиода на основе кремния: 1 — омические контакты, 2 — антиотражающее покрытие]]


'''Лавинные фотодиоды''' ('''ЛФД'''; {{lang-en|avalanche photodiode}} — {{lang-en2|APD}}) — высокочувствительные полупроводниковые приборы, преобразующие свет в электрический сигнал за счёт [[фотоэффект]]а. Их можно рассматривать в качестве [[фотоприёмник]]ов, обеспечивающих внутреннее усиление посредством [[Лавинный пробой|эффекта лавинного умножения]]. С функциональной точки зрения они являются твердотельными аналогами [[Фотоэлектронный умножитель|фотоумножителей]]. Лавинные фотодиоды обладают большей чувствительностью по сравнению с другими полупроводниковыми фотоприёмниками, что позволяет использовать их для регистрации малых световых мощностей (≲ 1 нВт).
'''Лави́нные фотодио́ды''' ('''ЛФД'''; {{lang-en|avalanche photodiode}} — {{lang-en2|APD}}) — высокочувствительные [[полупроводниковые приборы]], преобразующие свет в электрический сигнал за счёт [[фотоэффект]]а. Их можно рассматривать в качестве [[фотоприёмник]]ов, обеспечивающих внутреннее усиление посредством [[Лавинный пробой|эффекта лавинного умножения]].
С функциональной точки зрения они являются твердотельными аналогами [[Фотоэлектронный умножитель|фотоумножителей]]. Лавинные фотодиоды обладают большей чувствительностью по сравнению с другими полупроводниковыми фотоприёмниками, что позволяет использовать их для регистрации малых световых мощностей (≲ 1 нВт).


== Принцип работы ==
== Принцип работы ==
Строка 14: Строка 16:
где L — длина области пространственного заряда, а <math>\alpha</math> — коэффициент ударной ионизации для электронов (и дырок). Этот коэффициент сильно зависит от приложенного напряжения, температуры и профиля легирования. Отсюда возникает требование хорошей стабилизации питающего напряжения и температуры, либо учёт температуры задающей напряжение схемой.
где L — длина области пространственного заряда, а <math>\alpha</math> — коэффициент ударной ионизации для электронов (и дырок). Этот коэффициент сильно зависит от приложенного напряжения, температуры и профиля легирования. Отсюда возникает требование хорошей стабилизации питающего напряжения и температуры, либо учёт температуры задающей напряжение схемой.


Ещё одна эмпирическая формула показывает сильную зависимость коэффициента лавинного умножения ''(M)'' от приложенного обратного напряжения<ref>Оптическая и квантовая электроника: учебник для ВУЗов / А. Н. Пихтин — М.: Высшая школа, 2001, страница 522</ref> :
Ещё одна эмпирическая формула показывает сильную зависимость коэффициента лавинного умножения ''(M)'' от приложенного обратного напряжения<ref>Оптическая и квантовая электроника: учебник для ВУЗов / А. Н. Пихтин — М.: Высшая школа, 2001, страница 522</ref>:


: <math>M = \frac{1}{1 - (U / U_b)^n}</math>
: <math>M = \frac{1}{1 - (U / U_b)^n}</math>
Строка 20: Строка 22:
где <math>U_b</math> — напряжение пробоя. Показатель степени ''n'' принимает значения от 2 до 6, в зависимости от характеристик материала и структуры [[p-n-переход]]а.
где <math>U_b</math> — напряжение пробоя. Показатель степени ''n'' принимает значения от 2 до 6, в зависимости от характеристик материала и структуры [[p-n-переход]]а.


Исходя из того, что в общем случае с возрастанием обратного напряжения растёт и коэффициент усиления, существует ряд технологий, позволяющих повысить напряжение пробоя до более чем 1500 вольт, и получить таким образом усиление более чем в 1000 раз. Следует иметь в виду, что простое повышение напряженности поля без предприятия дополнительных мер может привести к увеличению шумов.
Исходя из того, что в общем случае с возрастанием обратного напряжения растёт и коэффициент усиления, существует ряд технологических приёмов при изготовлении, позволяющих повысить напряжение пробоя до более чем 1500 [[Вольт|В]] и получить таким образом усиление начального фототока более чем в 1000 раз. Следует иметь в виду, что простое повышение напряженности поля в p-n-переходе без предпринятия дополнительных мер может привести к увеличению шумов.


Если требуются очень высокие коэффициенты усиления (10<sup>5</sup> — 10<sup>6</sup>), возможна эксплуатация некоторых типов ЛФД при напряжениях выше пробойных. В этом случае требуется подавать на фотодиод ограниченные по току быстро спадающие импульсы. Для этого могут использоваться активные и пассивные стабилизаторы тока. Приборы, действующие таким образом работают в режиме Гейгера (Geiger mode). Этот режим применяется для создания однофотонных детекторов (при условии, что шумы достаточно малы)
Если требуются очень высокие коэффициенты усиления (10<sup>5</sup> — 10<sup>6</sup>), возможна эксплуатация некоторых типов ЛФД при напряжениях выше пробойных. В этом случае требуется подавать на фотодиод ограниченные по току короткие быстро спадающие импульсы. Для этого могут использоваться активные и пассивные стабилизаторы тока. Приборы, действующие таким образом работают в режиме [[Счётчик Гейгера|счётчика Гейгера]] (Geiger mode). Этот режим применяется для создания детекторов, реагирующих на единичные фотоны (при условии, что шумы достаточно малы)


== Применение ==
== Применение ==
Типичное применение ЛФД — [[Лазерный дальномер|лазерные дальномеры]] и [[Оптическое волокно|волоконные]] [[Волоконно-оптическая связь|линии связи]]. Среди новых применений можно назвать [[Позитронно-эмиссионная томография|позитронно-эмиссионную томографию]] и [[Физика элементарных частиц|физику элементарных частиц]]<ref>[http://kaon.kek.jp/~scintikek/pdf/0311_KEK_School-Photosensor.pdf Recent Progress of Photosensor]</ref>.
Типичное применение ЛФД — [[Лазерный дальномер|лазерные дальномеры]] и [[Оптическое волокно|оптоволоконные]] [[Волоконно-оптическая связь|линии связи]]. Среди новых применений можно назвать [[Позитронно-эмиссионная томография|позитронно-эмиссионную томографию]] и [[Физика элементарных частиц|физику элементарных частиц]]<ref>{{Cite web |url=http://kaon.kek.jp/~scintikek/pdf/0311_KEK_School-Photosensor.pdf |title=Recent Progress of Photosensor |accessdate=2009-12-18 |archiveurl=https://web.archive.org/web/20070803175820/http://kaon.kek.jp/~scintikek/pdf/0311_KEK_School-Photosensor.pdf |archivedate=2007-08-03 |deadlink=yes }}</ref>.

В настоящее время уже появляются коммерческие образцы массивов лавинных фотодиодов.
В настоящее время уже появляются коммерческие образцы массивов (фоточувствительных матриц) лавинных фотодиодов.


Сфера применения и эффективность ЛФД зависят от многих факторов. Наиболее важными являются:
Сфера применения и эффективность ЛФД зависят от многих факторов. Наиболее важными являются:
Строка 33: Строка 36:


== Шумы ==
== Шумы ==
Электронные шумы могут быть двух типов: последовательные и параллельные. Первые являются следствием [[Дробовой шум|дробовых флуктуаций]] и в основном пропорциональны ёмкости ЛФД, тогда как параллельные связаны с механическими колебаниями прибора и поверхностными токами утечки. Другим источником шума является фактор избыточного шума (excess noise factor),''F''. В нём описываются статистические шумы, которые присущи [[Стохастический|стохастическому]] процессу лавинного умножения ''M'' в ЛФД. Обычно он выражается следующим образом:
Электронные шумы могут быть двух типов: последовательные и параллельные. Первые являются следствием [[Дробовой шум|дробовых флуктуаций]] и в основном пропорциональны ёмкости ЛФД, тогда как параллельные связаны с механическими колебаниями прибора и поверхностными токами утечки. Другим источником шума является фактор избыточного шума ({{lang-en|excess noise factor}}), ''F''. В нём описываются статистические шумы, которые присущи [[Случайный процесс|случайному процессу]] лавинного умножения ''M'' в ЛФД. Обычно он выражается следующим образом:
: <math>F = \kappa M + \left(2 - \frac{1}{M}\right)\left(1 - \kappa\right)</math>


: <math>F = \kappa M + \left( 2 - \frac{1}{M} \right) \left( 1 - \kappa \right)</math>
где <math>\kappa\,</math> — соотношение коэффициентов ударной ионизации для дырок и электронов. Таким образом, увеличение асимметрии коэффициентов ионизации приводит к уменьшению этих помех. К этому стремятся на практике, так как ''F(M)'' вносит основной вклад в ограничение разрешающей способности приборов по энергии.

где <math>\kappa</math> — соотношение коэффициентов ударной ионизации для дырок и электронов. Таким образом, увеличение асимметрии коэффициентов ионизации приводит к уменьшению этих помех. К этому стремятся на практике, так как ''F(M)'' вносит основной вклад в ограничение разрешающей способности приборов по энергии.


== Ограничения по быстродействию ==
== Ограничения по быстродействию ==
Ограничения на скорость работы накладывают ёмкости, времена транзита электронов и дырок и время лавинного умножения. Ёмкость увеличивается с ростом площади переходов и уменьшением толщины. Время транзита электронов и дырок возрастает с увеличением толщины, что заставляет идти на компромисс между емкостью и временем. Задержки, связанные с лавинным умножением определяются структурой диодов применяемыми материалам, существует зависимость от <math>\kappa\,</math>.
Ограничения на скорость работы накладывают ёмкости, времена пролёта электронов и дырок через полупроводниковую структуру и время лавинного умножения. Ёмкость прибора увеличивается с ростом площади переходов и уменьшением толщины. Время пролёта электронов и дырок возрастает с увеличением толщины, что заставляет идти на компромисс между паразитной ёмкостью и временем пролёта. Задержки, связанные с лавинным умножением, определяются структурой диодов и применяемыми материалами, существует зависимость от <math>\kappa</math>.


== Технологии изготовления ==
== Технологии изготовления ==
[[Файл:APD3.png|300px|thumb|Зонная диаграмма лавинного фотодиода на гетероструктуре InP-InGaAs. Фототок образован дырками.<ref name=autogenerated1>{{cite book|author=Kwok K. Ng|title=Complete Guide to Semiconductor Devices|edition=2|publisher= Wiley-Interscience|year=2002}}</ref>]]
[[Файл:APD3.png|300px|thumb|Зонная диаграмма лавинного фотодиода на гетероструктуре InP-InGaAs. Фототок образован дырками<ref name=autogenerated1>{{книга |заглавие=Complete Guide to Semiconductor Devices |издание=2 |издательство=[[John Wiley & Sons|Wiley-Interscience]] |год=2002 |язык=und |автор=Kwok K. Ng}}</ref>.]]
Для создания данного класса приборов может быть использован широкий круг полупроводников:
Для создания этих приборов могут использоваться различные полупроводники:
* [[Кремний]] используется для работы в ближнем [[ИК]]-диапазоне, при этом имеет малые шумы, связанные с умножением носителей.
* [[Кремний]] используется для работы в ближнем [[Инфракрасное излучение|ИК-диапазоне]], при этом имеет малые шумы, связанные с умножением носителей.
* [[Германий]] принимает инфракрасные волны длиной до 1.7 мкм, но приборы на его основе имеют заметные шумы.
* [[Германий]] чувствителен к инфракрасным волнам длиной вплоть до {{num|1.7|мкм}}, но приборы на его основе имеют заметные шумы.
* [[Арсенид галлия]] обеспечивает приём волн длиной до {{num|1.6|мкм}}, при этом имеют шумы меньшие, нежели у германиевых приборов.
* [[InGaAs]] обеспечивает приём волн длиной от 1.6 мкм, при этом имея меньшие нежели у германия шумы. Обычно этот материал используется для изготовления лавинных фотодиодов на [[гетероструктура]]х, также включающих [[InP]] в качестве подложки и второго компонента для создания гетероструктуры.<ref name=tsang>{{cite book|title=Semiconductors and Semimetals|volume=Vol. 22, Part D "Photodetectors"|editor=Tsang, W.T.|publisher=Academic Press|year=1985}}</ref> Эта система имеет рабочий диапазон в пределах 0,7—0,9 мкм. У InGaAs высокий коэффициент поглощения на длинах волн, используемых в телекоммуникации через [[Волоконно-оптическая связь|волоконно-оптические линии связи]], таким образом достаточно даже микронных слоёв [[InGaAs]] для полного поглощения излучения .<ref name=tsang/>. Эти материалы обеспечивают небольшие задержки и малые шумы, что позволяет получить устройства с полосой частот более 100 ГГц для простой InP / InGaAs системы<ref>{{cite journal|author=Tarof, L.E.|title=Planar InP/GaAs Avalanche Photodetector with Gain-Bandwidth Product in Excess of 100 GHz|journal=Electronics Letters|volume= 27|pages=34–36|year=1991|doi=10.1049/el:19910023}}</ref> и до 400 ГГц для InGaAs на кремнии<ref>{{cite journal|author=Wu, W.; Hawkins, A.R.; Bowers, J.E.|title=Design of InGaAs/Si avalanche photodetectors for 400-GHz gain-bandwidth product|journal=Proceedings of SPIE|volume=3006|pages=36–47|year=1997|doi=10.1117/12.264251}}</ref>. Это делает возможным передачу данных на скоростях, превышающих 10 Гбит/с<ref>{{cite journal|author=Campbell, J. C.|title=Recent advances in Telecommunications Avalanche Photodiodes|journal=IEEE Journal of Lightwave Technology|volume=25|pages=109–121|doi=10.1109/JLT.2006.888481|year=2007}}</ref>
** Обычно арсенид галлия используется для изготовления лавинных фотодиодов с [[гетероструктура]]ми, также включающих [[фосфид индия]] в качестве подложки и второго слоя для создания гетероструктуры<ref name=tsang>{{книга |заглавие=Semiconductors and Semimetals |том=Vol.{{nbsp}}22, Part{{nbsp}}D "Photodetectors" |издательство=[[Academic Press]] |год=1985 |язык=und |ответственный=Tsang, W.T.}}</ref>. Эта гетероструктура имеет рабочий диапазон в пределах 0,7—0,9{{nbsp}}мкм.
* Диоды на основе [[Нитрид галлия|Нитрида галлия]] используются для работы в [[ультрафиолет]]овом диапазоне волн.
** [[Арсенид галлия-индия]] (InGaAs) имеет высокий коэффициент поглощения на длинах волн, обычно используемых в [[Волоконно-оптическая связь|волоконно-оптических линиях связи]], поэтому достаточно даже микронных слоёв InGaAs для полного поглощения излучения<ref name=tsang/>.
* [[HgCdTe]] применяется для изготовления диодов, работающих в [[ИК|инфракрасной]] части [[спектр]]а, обычно максимальная длина волны составляет около 14&nbsp;µm. При этом они требуют охлаждения для сокращения темновых токов. Такая система способна обеспечить очень низкий уровень помех.
: Эти материалы обеспечивают небольшие задержки и малые шумы, что позволяет получить устройства с полосой частот более 100 ГГц для простой InP/InGaAs системы<ref>{{статья |заглавие=Planar InP/GaAs Avalanche Photodetector with Gain-Bandwidth Product in Excess of 100 GHz |издание={{Нп3|Electronics Letters}} |том=27 |страницы=34—36 |doi=10.1049/el:19910023 |язык=en |тип=journal |автор=Tarof, L.E. |год=1991}}</ref> и до 400 ГГц для InGaAs в гетероструктуре на кремнии<ref>{{статья |заглавие=Design of InGaAs/Si avalanche photodetectors for 400-GHz gain-bandwidth product |издание=[[Proceedings of SPIE]] |том=3006 |страницы=36—47 |doi=10.1117/12.264251 |язык=en |тип=journal |автор=Wu, W.; Hawkins, A.R.; Bowers, J.E. |год=1997}}</ref>, что делает возможным передачу данных на скоростях, превышающих 10 Гбит/с<ref>{{статья |заглавие=Recent advances in Telecommunications Avalanche Photodiodes |издание=IEEE Journal of Lightwave Technology |том=25 |страницы=109—121 |doi=10.1109/JLT.2006.888481 |язык=en |тип=journal |автор=Campbell, J. C. |год=2007}}</ref>.
* Диоды на основе [[Нитрид галлия|нитрида галлия]] используются для работы в [[Ультрафиолетовое излучение|ультрафиолетовом диапазоне]] волн.
* {{iw|Теллурид ртути-кадмия|||Mercury cadmium telluride}} (HgCdTe) применяется для изготовления диодов, работающих в ближней [[Инфракрасное излучение|инфракрасной]] части [[спектр]]а, обычно максимальная длина волны достигает до {{num|14|мкм}}. Но при этом такие приборы требуют охлаждения для снижения темновых токов. Охлаждение способно обеспечить очень низкий уровень помех.


== Лавинные диоды на сверхрешетках ==
== Лавинные диоды на сверхрешетках ==
[[Файл:APD4.png|300px|thumb|Зонная диаграмма лавинного фотодиода на сверхрешетке.<ref name=autogenerated1 />]]
[[Файл:APD4.png|300px|thumb|Зонная диаграмма лавинного фотодиода на [[Сверхрешётка|сверхрешётке]]<ref name=autogenerated1 />.]]
Причина применения [[сверхрешетка|сверхрешеток]] для построения лавинных фотодиодов заключается в том, что большие различия между коэффициентами ударной ионизации для электронов и дырок приводят к сокращению шумов.
Причина применения [[Сверхрешётка|сверхрешёток]] для построения лавинных фотодиодов заключается в том, что большие различия между коэффициентами ударной ионизации для электронов и дырок приводят к сокращению шумов.


Ещё одно преимущество подобных структур в том, что процесс лавинного размножения более локализован, что также уменьшает помехи. Толщины отдельных слоёв лежат между 100 и 500&nbsp;Å.
Ещё одно преимущество подобных структур в том, что процесс лавинного размножения более локализован, что также уменьшает помехи. Толщины отдельных слоёв в сверхрешётке лежат между 100 и {{num|500|[[Ангстрем|Å]]}}.


== См. также ==
== См. также ==
Строка 61: Строка 68:
* [[Фоторезистор]]
* [[Фоторезистор]]
* [[Оптрон]]
* [[Оптрон]]
* [[pin диод|PIN-диод]]
* [[pin-диод]]
* {{iw|Однофотонный лавинный фотодиод||en|Single-photon avalanche diode}}


== Ссылки ==
== Ссылки ==
Строка 67: Строка 75:


== Литература ==
== Литература ==
* {{cite journal|doi=10.1063/1.92385|title=Fully ion-implanted p+-n germanium avalanche photodiodes|year=1981|last1=Kagawa|first1=S.|journal=[[Applied Physics Letters]]|volume=38|pages=429}}
* {{статья |doi=10.1063/1.92385 |заглавие=Fully ion-implanted p+-n germanium avalanche photodiodes |издание=[[Applied Physics Letters]] |том=38 |страницы=429 |язык=en |тип=journal |автор=Kagawa, S. |год=1981}}
* {{cite journal|doi=10.1063/1.364225|title=Breakdown characteristics in InP/InGaAs avalanche photodiode with p-i-n multiplication layer structure|year=1997|last1=Hyun|first1=Kyung-Sook|last2=Park|journal=[[Journal of Applied Physics]]|volume=81|pages=974}}
* {{статья |doi=10.1063/1.364225 |заглавие=Breakdown characteristics in InP/InGaAs avalanche photodiode with p-i-n multiplication layer structure |издание=[[Journal of Applied Physics]] |том=81 |страницы=974 |язык=en |тип=journal |автор=Hyun, Kyung-Sook; Park |год=1997}}
* [http://www.lasercomponents.com/de/fileadmin/user_upload/home/Datasheets/lc/applikationsreport/avalanche-photodiodes.pdf Selecting the right APD]
* [https://web.archive.org/web/20110713184642/http://www.lasercomponents.com/de/fileadmin/user_upload/home/Datasheets/lc/applikationsreport/avalanche-photodiodes.pdf Selecting the right APD]
* [http://www.lasercomponents.com/de/fileadmin/user_upload/home/Datasheets/lc/veroeffentlichung/progress-through-photonics.pdf Pulsed Laserdiodes and Avalanche Photodiodes for Industrial Applications]
* [https://web.archive.org/web/20110713184653/http://www.lasercomponents.com/de/fileadmin/user_upload/home/Datasheets/lc/veroeffentlichung/progress-through-photonics.pdf Pulsed Laserdiodes and Avalanche Photodiodes for Industrial Applications]

{{elec-stub}}


{{Полупроводниковые диоды}}
{{Электроника}}
{{phys-stub}}


[[Категория:Полупроводниковые диоды]]
[[Категория:Полупроводниковые диоды]]

Текущая версия от 02:59, 27 марта 2020

Структура лавинного фотодиода на основе кремния: 1 — омические контакты, 2 — антиотражающее покрытие

Лави́нные фотодио́ды (ЛФД; англ. avalanche photodiode — APD) — высокочувствительные полупроводниковые приборы, преобразующие свет в электрический сигнал за счёт фотоэффекта. Их можно рассматривать в качестве фотоприёмников, обеспечивающих внутреннее усиление посредством эффекта лавинного умножения.

С функциональной точки зрения они являются твердотельными аналогами фотоумножителей. Лавинные фотодиоды обладают большей чувствительностью по сравнению с другими полупроводниковыми фотоприёмниками, что позволяет использовать их для регистрации малых световых мощностей (≲ 1 нВт).

Принцип работы

[править | править код]

При подаче сильного обратного смещения (близкого к напряжению лавинного пробоя, обычно порядка нескольких сотен вольт для кремниевых приборов), происходит усиление фототока (примерно в 100 раз) за счёт ударной ионизации (лавинного умножения) генерированных светом носителей заряда. Суть процесса в том, что энергия образовавшегося под действием света электрона увеличивается под действием внешнего приложенного поля и может превысить порог ионизации вещества, так что столкновение такого «горячего» электрона с электроном из валентной зоны может привести к возникновению новой электрон-дырочной пары, носители заряда которой также будут ускоряться полем и могут стать причиной образования всё новых и новых носителей заряда.

Зависимость тока (I) и коэффициента умножения (M) от обратного напряжения (U) на ЛФД.

Существует ряд формул для коэффициента лавинного умножения (M), довольно информативной является следующая:

где L — длина области пространственного заряда, а  — коэффициент ударной ионизации для электронов (и дырок). Этот коэффициент сильно зависит от приложенного напряжения, температуры и профиля легирования. Отсюда возникает требование хорошей стабилизации питающего напряжения и температуры, либо учёт температуры задающей напряжение схемой.

Ещё одна эмпирическая формула показывает сильную зависимость коэффициента лавинного умножения (M) от приложенного обратного напряжения[1]:

где  — напряжение пробоя. Показатель степени n принимает значения от 2 до 6, в зависимости от характеристик материала и структуры p-n-перехода.

Исходя из того, что в общем случае с возрастанием обратного напряжения растёт и коэффициент усиления, существует ряд технологических приёмов при изготовлении, позволяющих повысить напряжение пробоя до более чем 1500 В и получить таким образом усиление начального фототока более чем в 1000 раз. Следует иметь в виду, что простое повышение напряженности поля в p-n-переходе без предпринятия дополнительных мер может привести к увеличению шумов.

Если требуются очень высокие коэффициенты усиления (105 — 106), возможна эксплуатация некоторых типов ЛФД при напряжениях выше пробойных. В этом случае требуется подавать на фотодиод ограниченные по току короткие быстро спадающие импульсы. Для этого могут использоваться активные и пассивные стабилизаторы тока. Приборы, действующие таким образом работают в режиме счётчика Гейгера (Geiger mode). Этот режим применяется для создания детекторов, реагирующих на единичные фотоны (при условии, что шумы достаточно малы)

Применение

[править | править код]

Типичное применение ЛФД — лазерные дальномеры и оптоволоконные линии связи. Среди новых применений можно назвать позитронно-эмиссионную томографию и физику элементарных частиц[2].

В настоящее время уже появляются коммерческие образцы массивов (фоточувствительных матриц) лавинных фотодиодов.

Сфера применения и эффективность ЛФД зависят от многих факторов. Наиболее важными являются:

  • квантовая эффективность, которая показывает, какая доля падающих фотонов приводит к образованию носителей заряда и возникновению тока;
  • суммарный ток утечек, который складывается из темнового тока и шумов.

Электронные шумы могут быть двух типов: последовательные и параллельные. Первые являются следствием дробовых флуктуаций и в основном пропорциональны ёмкости ЛФД, тогда как параллельные связаны с механическими колебаниями прибора и поверхностными токами утечки. Другим источником шума является фактор избыточного шума (англ. excess noise factor), F. В нём описываются статистические шумы, которые присущи случайному процессу лавинного умножения M в ЛФД. Обычно он выражается следующим образом:

где  — соотношение коэффициентов ударной ионизации для дырок и электронов. Таким образом, увеличение асимметрии коэффициентов ионизации приводит к уменьшению этих помех. К этому стремятся на практике, так как F(M) вносит основной вклад в ограничение разрешающей способности приборов по энергии.

Ограничения по быстродействию

[править | править код]

Ограничения на скорость работы накладывают ёмкости, времена пролёта электронов и дырок через полупроводниковую структуру и время лавинного умножения. Ёмкость прибора увеличивается с ростом площади переходов и уменьшением толщины. Время пролёта электронов и дырок возрастает с увеличением толщины, что заставляет идти на компромисс между паразитной ёмкостью и временем пролёта. Задержки, связанные с лавинным умножением, определяются структурой диодов и применяемыми материалами, существует зависимость от .

Технологии изготовления

[править | править код]
Зонная диаграмма лавинного фотодиода на гетероструктуре InP-InGaAs. Фототок образован дырками[3].

Для создания этих приборов могут использоваться различные полупроводники:

  • Кремний используется для работы в ближнем ИК-диапазоне, при этом имеет малые шумы, связанные с умножением носителей.
  • Германий чувствителен к инфракрасным волнам длиной вплоть до 1,7 мкм, но приборы на его основе имеют заметные шумы.
  • Арсенид галлия обеспечивает приём волн длиной до 1,6 мкм, при этом имеют шумы меньшие, нежели у германиевых приборов.
    • Обычно арсенид галлия используется для изготовления лавинных фотодиодов с гетероструктурами, также включающих фосфид индия в качестве подложки и второго слоя для создания гетероструктуры[4]. Эта гетероструктура имеет рабочий диапазон в пределах 0,7—0,9 мкм.
    • Арсенид галлия-индия (InGaAs) имеет высокий коэффициент поглощения на длинах волн, обычно используемых в волоконно-оптических линиях связи, поэтому достаточно даже микронных слоёв InGaAs для полного поглощения излучения[4].
Эти материалы обеспечивают небольшие задержки и малые шумы, что позволяет получить устройства с полосой частот более 100 ГГц для простой InP/InGaAs системы[5] и до 400 ГГц для InGaAs в гетероструктуре на кремнии[6], что делает возможным передачу данных на скоростях, превышающих 10 Гбит/с[7].

Лавинные диоды на сверхрешетках

[править | править код]
Зонная диаграмма лавинного фотодиода на сверхрешётке[3].

Причина применения сверхрешёток для построения лавинных фотодиодов заключается в том, что большие различия между коэффициентами ударной ионизации для электронов и дырок приводят к сокращению шумов.

Ещё одно преимущество подобных структур в том, что процесс лавинного размножения более локализован, что также уменьшает помехи. Толщины отдельных слоёв в сверхрешётке лежат между 100 и 500 Å.

  1. Оптическая и квантовая электроника: учебник для ВУЗов / А. Н. Пихтин — М.: Высшая школа, 2001, страница 522
  2. Recent Progress of Photosensor. Дата обращения: 18 декабря 2009. Архивировано из оригинала 3 августа 2007 года.
  3. 1 2 Kwok K. Ng. Complete Guide to Semiconductor Devices (неопр.). — 2. — Wiley-Interscience, 2002.
  4. 1 2 Semiconductors and Semimetals (неопр.) / Tsang, W.T.. — Academic Press, 1985. — Т. Vol. 22, Part D "Photodetectors".
  5. Tarof, L.E. Planar InP/GaAs Avalanche Photodetector with Gain-Bandwidth Product in Excess of 100 GHz (англ.) // Electronics Letters[англ.] : journal. — 1991. — Vol. 27. — P. 34—36. — doi:10.1049/el:19910023.
  6. Wu, W.; Hawkins, A.R.; Bowers, J.E. Design of InGaAs/Si avalanche photodetectors for 400-GHz gain-bandwidth product (англ.) // Proceedings of SPIE : journal. — 1997. — Vol. 3006. — P. 36—47. — doi:10.1117/12.264251.
  7. Campbell, J. C. Recent advances in Telecommunications Avalanche Photodiodes (англ.) // IEEE Journal of Lightwave Technology : journal. — 2007. — Vol. 25. — P. 109—121. — doi:10.1109/JLT.2006.888481.

Литература

[править | править код]