Лавинный фотодиод: различия между версиями
[непроверенная версия] | [отпатрулированная версия] |
Addbot (обсуждение | вклад) м Перемещение 12 интервики на Викиданные, d:q175932 |
Спасено источников — 1, отмечено мёртвыми — 0. Сообщить об ошибке. См. FAQ.) #IABot (v2.0 |
||
(не показано 17 промежуточных версий 14 участников) | |||
Строка 1: | Строка 1: | ||
[[Файл:APD.png|300px|thumb|Структура лавинного фотодиода на основе кремния: 1 — омические контакты, 2 — антиотражающее покрытие]] |
[[Файл:APD.png|300px|thumb|Структура лавинного фотодиода на основе кремния: 1 — омические контакты, 2 — антиотражающее покрытие]] |
||
''' |
'''Лави́нные фотодио́ды''' ('''ЛФД'''; {{lang-en|avalanche photodiode}} — {{lang-en2|APD}}) — высокочувствительные [[полупроводниковые приборы]], преобразующие свет в электрический сигнал за счёт [[фотоэффект]]а. Их можно рассматривать в качестве [[фотоприёмник]]ов, обеспечивающих внутреннее усиление посредством [[Лавинный пробой|эффекта лавинного умножения]]. |
||
С функциональной точки зрения они являются твердотельными аналогами [[Фотоэлектронный умножитель|фотоумножителей]]. Лавинные фотодиоды обладают большей чувствительностью по сравнению с другими полупроводниковыми фотоприёмниками, что позволяет использовать их для регистрации малых световых мощностей (≲ 1 нВт). |
|||
== Принцип работы == |
== Принцип работы == |
||
Строка 14: | Строка 16: | ||
где L — длина области пространственного заряда, а <math>\alpha</math> — коэффициент ударной ионизации для электронов (и дырок). Этот коэффициент сильно зависит от приложенного напряжения, температуры и профиля легирования. Отсюда возникает требование хорошей стабилизации питающего напряжения и температуры, либо учёт температуры задающей напряжение схемой. |
где L — длина области пространственного заряда, а <math>\alpha</math> — коэффициент ударной ионизации для электронов (и дырок). Этот коэффициент сильно зависит от приложенного напряжения, температуры и профиля легирования. Отсюда возникает требование хорошей стабилизации питающего напряжения и температуры, либо учёт температуры задающей напряжение схемой. |
||
Ещё одна эмпирическая формула показывает сильную зависимость коэффициента лавинного умножения ''(M)'' от приложенного обратного напряжения<ref>Оптическая и квантовая электроника: учебник для ВУЗов / А. Н. Пихтин — М.: Высшая школа, 2001, страница 522</ref> |
Ещё одна эмпирическая формула показывает сильную зависимость коэффициента лавинного умножения ''(M)'' от приложенного обратного напряжения<ref>Оптическая и квантовая электроника: учебник для ВУЗов / А. Н. Пихтин — М.: Высшая школа, 2001, страница 522</ref>: |
||
: <math>M = \frac{1}{1 - (U / U_b)^n}</math> |
: <math>M = \frac{1}{1 - (U / U_b)^n}</math> |
||
Строка 20: | Строка 22: | ||
где <math>U_b</math> — напряжение пробоя. Показатель степени ''n'' принимает значения от 2 до 6, в зависимости от характеристик материала и структуры [[p-n-переход]]а. |
где <math>U_b</math> — напряжение пробоя. Показатель степени ''n'' принимает значения от 2 до 6, в зависимости от характеристик материала и структуры [[p-n-переход]]а. |
||
Исходя из того, что в общем случае с возрастанием обратного напряжения растёт и коэффициент усиления, существует ряд |
Исходя из того, что в общем случае с возрастанием обратного напряжения растёт и коэффициент усиления, существует ряд технологических приёмов при изготовлении, позволяющих повысить напряжение пробоя до более чем 1500 [[Вольт|В]] и получить таким образом усиление начального фототока более чем в 1000 раз. Следует иметь в виду, что простое повышение напряженности поля в p-n-переходе без предпринятия дополнительных мер может привести к увеличению шумов. |
||
Если требуются очень высокие коэффициенты усиления (10<sup>5</sup> — 10<sup>6</sup>), возможна эксплуатация некоторых типов ЛФД при напряжениях выше пробойных. В этом случае требуется подавать на фотодиод ограниченные по току быстро спадающие импульсы. Для этого могут использоваться активные и пассивные стабилизаторы тока. Приборы, действующие таким образом работают в режиме Гейгера (Geiger mode). Этот режим применяется для создания |
Если требуются очень высокие коэффициенты усиления (10<sup>5</sup> — 10<sup>6</sup>), возможна эксплуатация некоторых типов ЛФД при напряжениях выше пробойных. В этом случае требуется подавать на фотодиод ограниченные по току короткие быстро спадающие импульсы. Для этого могут использоваться активные и пассивные стабилизаторы тока. Приборы, действующие таким образом работают в режиме [[Счётчик Гейгера|счётчика Гейгера]] (Geiger mode). Этот режим применяется для создания детекторов, реагирующих на единичные фотоны (при условии, что шумы достаточно малы) |
||
== Применение == |
== Применение == |
||
Типичное применение ЛФД — [[Лазерный дальномер|лазерные дальномеры]] и [[Оптическое волокно| |
Типичное применение ЛФД — [[Лазерный дальномер|лазерные дальномеры]] и [[Оптическое волокно|оптоволоконные]] [[Волоконно-оптическая связь|линии связи]]. Среди новых применений можно назвать [[Позитронно-эмиссионная томография|позитронно-эмиссионную томографию]] и [[Физика элементарных частиц|физику элементарных частиц]]<ref>{{Cite web |url=http://kaon.kek.jp/~scintikek/pdf/0311_KEK_School-Photosensor.pdf |title=Recent Progress of Photosensor |accessdate=2009-12-18 |archiveurl=https://web.archive.org/web/20070803175820/http://kaon.kek.jp/~scintikek/pdf/0311_KEK_School-Photosensor.pdf |archivedate=2007-08-03 |deadlink=yes }}</ref>. |
||
В настоящее время уже появляются коммерческие образцы массивов лавинных фотодиодов. |
В настоящее время уже появляются коммерческие образцы массивов (фоточувствительных матриц) лавинных фотодиодов. |
||
Сфера применения и эффективность ЛФД зависят от многих факторов. Наиболее важными являются: |
Сфера применения и эффективность ЛФД зависят от многих факторов. Наиболее важными являются: |
||
Строка 33: | Строка 36: | ||
== Шумы == |
== Шумы == |
||
Электронные шумы могут быть двух типов: последовательные и параллельные. Первые являются следствием [[Дробовой шум|дробовых флуктуаций]] и в основном пропорциональны ёмкости ЛФД, тогда как параллельные связаны с механическими колебаниями прибора и поверхностными токами утечки. Другим источником шума является фактор избыточного шума (excess noise factor),''F''. В нём описываются статистические шумы, которые присущи [[ |
Электронные шумы могут быть двух типов: последовательные и параллельные. Первые являются следствием [[Дробовой шум|дробовых флуктуаций]] и в основном пропорциональны ёмкости ЛФД, тогда как параллельные связаны с механическими колебаниями прибора и поверхностными токами утечки. Другим источником шума является фактор избыточного шума ({{lang-en|excess noise factor}}), ''F''. В нём описываются статистические шумы, которые присущи [[Случайный процесс|случайному процессу]] лавинного умножения ''M'' в ЛФД. Обычно он выражается следующим образом: |
||
⚫ | |||
⚫ | |||
⚫ | где <math>\kappa |
||
⚫ | где <math>\kappa</math> — соотношение коэффициентов ударной ионизации для дырок и электронов. Таким образом, увеличение асимметрии коэффициентов ионизации приводит к уменьшению этих помех. К этому стремятся на практике, так как ''F(M)'' вносит основной вклад в ограничение разрешающей способности приборов по энергии. |
||
== Ограничения по быстродействию == |
== Ограничения по быстродействию == |
||
Ограничения на скорость работы накладывают ёмкости, времена |
Ограничения на скорость работы накладывают ёмкости, времена пролёта электронов и дырок через полупроводниковую структуру и время лавинного умножения. Ёмкость прибора увеличивается с ростом площади переходов и уменьшением толщины. Время пролёта электронов и дырок возрастает с увеличением толщины, что заставляет идти на компромисс между паразитной ёмкостью и временем пролёта. Задержки, связанные с лавинным умножением, определяются структурой диодов и применяемыми материалами, существует зависимость от <math>\kappa</math>. |
||
== Технологии изготовления == |
== Технологии изготовления == |
||
[[Файл:APD3.png|300px|thumb|Зонная диаграмма лавинного фотодиода на гетероструктуре InP-InGaAs. Фототок образован дырками |
[[Файл:APD3.png|300px|thumb|Зонная диаграмма лавинного фотодиода на гетероструктуре InP-InGaAs. Фототок образован дырками<ref name=autogenerated1>{{книга |заглавие=Complete Guide to Semiconductor Devices |издание=2 |издательство=[[John Wiley & Sons|Wiley-Interscience]] |год=2002 |язык=und |автор=Kwok K. Ng}}</ref>.]] |
||
Для создания |
Для создания этих приборов могут использоваться различные полупроводники: |
||
* [[Кремний]] используется для работы в ближнем [[ИК |
* [[Кремний]] используется для работы в ближнем [[Инфракрасное излучение|ИК-диапазоне]], при этом имеет малые шумы, связанные с умножением носителей. |
||
* [[Германий]] |
* [[Германий]] чувствителен к инфракрасным волнам длиной вплоть до {{num|1.7|мкм}}, но приборы на его основе имеют заметные шумы. |
||
* [[Арсенид галлия]] обеспечивает приём волн длиной до {{num|1.6|мкм}}, при этом имеют шумы меньшие, нежели у германиевых приборов. |
|||
* [[InGaAs]] обеспечивает приём волн длиной от 1.6 мкм, при этом имея меньшие нежели у германия шумы. Обычно этот материал используется для изготовления лавинных фотодиодов на [[гетероструктура]]х, также включающих [[InP]] в качестве подложки и второго компонента для создания гетероструктуры.<ref name=tsang>{{cite book|title=Semiconductors and Semimetals|volume=Vol. 22, Part D "Photodetectors"|editor=Tsang, W.T.|publisher=Academic Press|year=1985}}</ref> Эта система имеет рабочий диапазон в пределах 0,7—0,9 мкм. У InGaAs высокий коэффициент поглощения на длинах волн, используемых в телекоммуникации через [[Волоконно-оптическая связь|волоконно-оптические линии связи]], таким образом достаточно даже микронных слоёв [[InGaAs]] для полного поглощения излучения .<ref name=tsang/>. Эти материалы обеспечивают небольшие задержки и малые шумы, что позволяет получить устройства с полосой частот более 100 ГГц для простой InP / InGaAs системы<ref>{{cite journal|author=Tarof, L.E.|title=Planar InP/GaAs Avalanche Photodetector with Gain-Bandwidth Product in Excess of 100 GHz|journal=Electronics Letters|volume= 27|pages=34–36|year=1991|doi=10.1049/el:19910023}}</ref> и до 400 ГГц для InGaAs на кремнии<ref>{{cite journal|author=Wu, W.; Hawkins, A.R.; Bowers, J.E.|title=Design of InGaAs/Si avalanche photodetectors for 400-GHz gain-bandwidth product|journal=Proceedings of SPIE|volume=3006|pages=36–47|year=1997|doi=10.1117/12.264251}}</ref>. Это делает возможным передачу данных на скоростях, превышающих 10 Гбит/с<ref>{{cite journal|author=Campbell, J. C.|title=Recent advances in Telecommunications Avalanche Photodiodes|journal=IEEE Journal of Lightwave Technology|volume=25|pages=109–121|doi=10.1109/JLT.2006.888481|year=2007}}</ref> |
|||
** Обычно арсенид галлия используется для изготовления лавинных фотодиодов с [[гетероструктура]]ми, также включающих [[фосфид индия]] в качестве подложки и второго слоя для создания гетероструктуры<ref name=tsang>{{книга |заглавие=Semiconductors and Semimetals |том=Vol.{{nbsp}}22, Part{{nbsp}}D "Photodetectors" |издательство=[[Academic Press]] |год=1985 |язык=und |ответственный=Tsang, W.T.}}</ref>. Эта гетероструктура имеет рабочий диапазон в пределах 0,7—0,9{{nbsp}}мкм. |
|||
⚫ | |||
** [[Арсенид галлия-индия]] (InGaAs) имеет высокий коэффициент поглощения на длинах волн, обычно используемых в [[Волоконно-оптическая связь|волоконно-оптических линиях связи]], поэтому достаточно даже микронных слоёв InGaAs для полного поглощения излучения<ref name=tsang/>. |
|||
⚫ | |||
: Эти материалы обеспечивают небольшие задержки и малые шумы, что позволяет получить устройства с полосой частот более 100 ГГц для простой InP/InGaAs системы<ref>{{статья |заглавие=Planar InP/GaAs Avalanche Photodetector with Gain-Bandwidth Product in Excess of 100 GHz |издание={{Нп3|Electronics Letters}} |том=27 |страницы=34—36 |doi=10.1049/el:19910023 |язык=en |тип=journal |автор=Tarof, L.E. |год=1991}}</ref> и до 400 ГГц для InGaAs в гетероструктуре на кремнии<ref>{{статья |заглавие=Design of InGaAs/Si avalanche photodetectors for 400-GHz gain-bandwidth product |издание=[[Proceedings of SPIE]] |том=3006 |страницы=36—47 |doi=10.1117/12.264251 |язык=en |тип=journal |автор=Wu, W.; Hawkins, A.R.; Bowers, J.E. |год=1997}}</ref>, что делает возможным передачу данных на скоростях, превышающих 10 Гбит/с<ref>{{статья |заглавие=Recent advances in Telecommunications Avalanche Photodiodes |издание=IEEE Journal of Lightwave Technology |том=25 |страницы=109—121 |doi=10.1109/JLT.2006.888481 |язык=en |тип=journal |автор=Campbell, J. C. |год=2007}}</ref>. |
|||
⚫ | |||
⚫ | * {{iw|Теллурид ртути-кадмия|||Mercury cadmium telluride}} (HgCdTe) применяется для изготовления диодов, работающих в ближней [[Инфракрасное излучение|инфракрасной]] части [[спектр]]а, обычно максимальная длина волны достигает до {{num|14|мкм}}. Но при этом такие приборы требуют охлаждения для снижения темновых токов. Охлаждение способно обеспечить очень низкий уровень помех. |
||
== Лавинные диоды на сверхрешетках == |
== Лавинные диоды на сверхрешетках == |
||
[[Файл:APD4.png|300px|thumb|Зонная диаграмма лавинного фотодиода на |
[[Файл:APD4.png|300px|thumb|Зонная диаграмма лавинного фотодиода на [[Сверхрешётка|сверхрешётке]]<ref name=autogenerated1 />.]] |
||
Причина применения [[ |
Причина применения [[Сверхрешётка|сверхрешёток]] для построения лавинных фотодиодов заключается в том, что большие различия между коэффициентами ударной ионизации для электронов и дырок приводят к сокращению шумов. |
||
Ещё одно преимущество подобных структур в том, что процесс лавинного размножения более локализован, что также уменьшает помехи. Толщины отдельных слоёв лежат между 100 и 500 |
Ещё одно преимущество подобных структур в том, что процесс лавинного размножения более локализован, что также уменьшает помехи. Толщины отдельных слоёв в сверхрешётке лежат между 100 и {{num|500|[[Ангстрем|Å]]}}. |
||
== См. также == |
== См. также == |
||
Строка 61: | Строка 68: | ||
* [[Фоторезистор]] |
* [[Фоторезистор]] |
||
* [[Оптрон]] |
* [[Оптрон]] |
||
* [[pin |
* [[pin-диод]] |
||
* {{iw|Однофотонный лавинный фотодиод||en|Single-photon avalanche diode}} |
|||
== Ссылки == |
== Ссылки == |
||
Строка 67: | Строка 75: | ||
== Литература == |
== Литература == |
||
* {{ |
* {{статья |doi=10.1063/1.92385 |заглавие=Fully ion-implanted p+-n germanium avalanche photodiodes |издание=[[Applied Physics Letters]] |том=38 |страницы=429 |язык=en |тип=journal |автор=Kagawa, S. |год=1981}} |
||
* {{ |
* {{статья |doi=10.1063/1.364225 |заглавие=Breakdown characteristics in InP/InGaAs avalanche photodiode with p-i-n multiplication layer structure |издание=[[Journal of Applied Physics]] |том=81 |страницы=974 |язык=en |тип=journal |автор=Hyun, Kyung-Sook; Park |год=1997}} |
||
* [http://www.lasercomponents.com/de/fileadmin/user_upload/home/Datasheets/lc/applikationsreport/avalanche-photodiodes.pdf Selecting the right APD] |
* [https://web.archive.org/web/20110713184642/http://www.lasercomponents.com/de/fileadmin/user_upload/home/Datasheets/lc/applikationsreport/avalanche-photodiodes.pdf Selecting the right APD] |
||
* [http://www.lasercomponents.com/de/fileadmin/user_upload/home/Datasheets/lc/veroeffentlichung/progress-through-photonics.pdf Pulsed Laserdiodes and Avalanche Photodiodes for Industrial Applications] |
* [https://web.archive.org/web/20110713184653/http://www.lasercomponents.com/de/fileadmin/user_upload/home/Datasheets/lc/veroeffentlichung/progress-through-photonics.pdf Pulsed Laserdiodes and Avalanche Photodiodes for Industrial Applications] |
||
{{elec-stub}} |
|||
{{Полупроводниковые диоды}} |
|||
{{Электроника}} |
|||
{{phys-stub}} |
|||
[[Категория:Полупроводниковые диоды]] |
[[Категория:Полупроводниковые диоды]] |
Текущая версия от 02:59, 27 марта 2020
Лави́нные фотодио́ды (ЛФД; англ. avalanche photodiode — APD) — высокочувствительные полупроводниковые приборы, преобразующие свет в электрический сигнал за счёт фотоэффекта. Их можно рассматривать в качестве фотоприёмников, обеспечивающих внутреннее усиление посредством эффекта лавинного умножения.
С функциональной точки зрения они являются твердотельными аналогами фотоумножителей. Лавинные фотодиоды обладают большей чувствительностью по сравнению с другими полупроводниковыми фотоприёмниками, что позволяет использовать их для регистрации малых световых мощностей (≲ 1 нВт).
Принцип работы
[править | править код]При подаче сильного обратного смещения (близкого к напряжению лавинного пробоя, обычно порядка нескольких сотен вольт для кремниевых приборов), происходит усиление фототока (примерно в 100 раз) за счёт ударной ионизации (лавинного умножения) генерированных светом носителей заряда. Суть процесса в том, что энергия образовавшегося под действием света электрона увеличивается под действием внешнего приложенного поля и может превысить порог ионизации вещества, так что столкновение такого «горячего» электрона с электроном из валентной зоны может привести к возникновению новой электрон-дырочной пары, носители заряда которой также будут ускоряться полем и могут стать причиной образования всё новых и новых носителей заряда.
Существует ряд формул для коэффициента лавинного умножения (M), довольно информативной является следующая:
где L — длина области пространственного заряда, а — коэффициент ударной ионизации для электронов (и дырок). Этот коэффициент сильно зависит от приложенного напряжения, температуры и профиля легирования. Отсюда возникает требование хорошей стабилизации питающего напряжения и температуры, либо учёт температуры задающей напряжение схемой.
Ещё одна эмпирическая формула показывает сильную зависимость коэффициента лавинного умножения (M) от приложенного обратного напряжения[1]:
где — напряжение пробоя. Показатель степени n принимает значения от 2 до 6, в зависимости от характеристик материала и структуры p-n-перехода.
Исходя из того, что в общем случае с возрастанием обратного напряжения растёт и коэффициент усиления, существует ряд технологических приёмов при изготовлении, позволяющих повысить напряжение пробоя до более чем 1500 В и получить таким образом усиление начального фототока более чем в 1000 раз. Следует иметь в виду, что простое повышение напряженности поля в p-n-переходе без предпринятия дополнительных мер может привести к увеличению шумов.
Если требуются очень высокие коэффициенты усиления (105 — 106), возможна эксплуатация некоторых типов ЛФД при напряжениях выше пробойных. В этом случае требуется подавать на фотодиод ограниченные по току короткие быстро спадающие импульсы. Для этого могут использоваться активные и пассивные стабилизаторы тока. Приборы, действующие таким образом работают в режиме счётчика Гейгера (Geiger mode). Этот режим применяется для создания детекторов, реагирующих на единичные фотоны (при условии, что шумы достаточно малы)
Применение
[править | править код]Типичное применение ЛФД — лазерные дальномеры и оптоволоконные линии связи. Среди новых применений можно назвать позитронно-эмиссионную томографию и физику элементарных частиц[2].
В настоящее время уже появляются коммерческие образцы массивов (фоточувствительных матриц) лавинных фотодиодов.
Сфера применения и эффективность ЛФД зависят от многих факторов. Наиболее важными являются:
- квантовая эффективность, которая показывает, какая доля падающих фотонов приводит к образованию носителей заряда и возникновению тока;
- суммарный ток утечек, который складывается из темнового тока и шумов.
Шумы
[править | править код]Электронные шумы могут быть двух типов: последовательные и параллельные. Первые являются следствием дробовых флуктуаций и в основном пропорциональны ёмкости ЛФД, тогда как параллельные связаны с механическими колебаниями прибора и поверхностными токами утечки. Другим источником шума является фактор избыточного шума (англ. excess noise factor), F. В нём описываются статистические шумы, которые присущи случайному процессу лавинного умножения M в ЛФД. Обычно он выражается следующим образом:
где — соотношение коэффициентов ударной ионизации для дырок и электронов. Таким образом, увеличение асимметрии коэффициентов ионизации приводит к уменьшению этих помех. К этому стремятся на практике, так как F(M) вносит основной вклад в ограничение разрешающей способности приборов по энергии.
Ограничения по быстродействию
[править | править код]Ограничения на скорость работы накладывают ёмкости, времена пролёта электронов и дырок через полупроводниковую структуру и время лавинного умножения. Ёмкость прибора увеличивается с ростом площади переходов и уменьшением толщины. Время пролёта электронов и дырок возрастает с увеличением толщины, что заставляет идти на компромисс между паразитной ёмкостью и временем пролёта. Задержки, связанные с лавинным умножением, определяются структурой диодов и применяемыми материалами, существует зависимость от .
Технологии изготовления
[править | править код]Для создания этих приборов могут использоваться различные полупроводники:
- Кремний используется для работы в ближнем ИК-диапазоне, при этом имеет малые шумы, связанные с умножением носителей.
- Германий чувствителен к инфракрасным волнам длиной вплоть до 1,7 мкм, но приборы на его основе имеют заметные шумы.
- Арсенид галлия обеспечивает приём волн длиной до 1,6 мкм, при этом имеют шумы меньшие, нежели у германиевых приборов.
- Обычно арсенид галлия используется для изготовления лавинных фотодиодов с гетероструктурами, также включающих фосфид индия в качестве подложки и второго слоя для создания гетероструктуры[4]. Эта гетероструктура имеет рабочий диапазон в пределах 0,7—0,9 мкм.
- Арсенид галлия-индия (InGaAs) имеет высокий коэффициент поглощения на длинах волн, обычно используемых в волоконно-оптических линиях связи, поэтому достаточно даже микронных слоёв InGaAs для полного поглощения излучения[4].
- Эти материалы обеспечивают небольшие задержки и малые шумы, что позволяет получить устройства с полосой частот более 100 ГГц для простой InP/InGaAs системы[5] и до 400 ГГц для InGaAs в гетероструктуре на кремнии[6], что делает возможным передачу данных на скоростях, превышающих 10 Гбит/с[7].
- Диоды на основе нитрида галлия используются для работы в ультрафиолетовом диапазоне волн.
- Теллурид ртути-кадмия[англ.] (HgCdTe) применяется для изготовления диодов, работающих в ближней инфракрасной части спектра, обычно максимальная длина волны достигает до 14 мкм. Но при этом такие приборы требуют охлаждения для снижения темновых токов. Охлаждение способно обеспечить очень низкий уровень помех.
Лавинные диоды на сверхрешетках
[править | править код]Причина применения сверхрешёток для построения лавинных фотодиодов заключается в том, что большие различия между коэффициентами ударной ионизации для электронов и дырок приводят к сокращению шумов.
Ещё одно преимущество подобных структур в том, что процесс лавинного размножения более локализован, что также уменьшает помехи. Толщины отдельных слоёв в сверхрешётке лежат между 100 и 500 Å.
См. также
[править | править код]Ссылки
[править | править код]- ↑ Оптическая и квантовая электроника: учебник для ВУЗов / А. Н. Пихтин — М.: Высшая школа, 2001, страница 522
- ↑ Recent Progress of Photosensor . Дата обращения: 18 декабря 2009. Архивировано из оригинала 3 августа 2007 года.
- ↑ 1 2 Kwok K. Ng. Complete Guide to Semiconductor Devices (неопр.). — 2. — Wiley-Interscience, 2002.
- ↑ 1 2 Semiconductors and Semimetals (неопр.) / Tsang, W.T.. — Academic Press, 1985. — Т. Vol. 22, Part D "Photodetectors".
- ↑ Tarof, L.E. Planar InP/GaAs Avalanche Photodetector with Gain-Bandwidth Product in Excess of 100 GHz (англ.) // Electronics Letters[англ.] : journal. — 1991. — Vol. 27. — P. 34—36. — doi:10.1049/el:19910023.
- ↑ Wu, W.; Hawkins, A.R.; Bowers, J.E. Design of InGaAs/Si avalanche photodetectors for 400-GHz gain-bandwidth product (англ.) // Proceedings of SPIE : journal. — 1997. — Vol. 3006. — P. 36—47. — doi:10.1117/12.264251.
- ↑ Campbell, J. C. Recent advances in Telecommunications Avalanche Photodiodes (англ.) // IEEE Journal of Lightwave Technology : journal. — 2007. — Vol. 25. — P. 109—121. — doi:10.1109/JLT.2006.888481.
Литература
[править | править код]- Kagawa, S. Fully ion-implanted p+-n germanium avalanche photodiodes (англ.) // Applied Physics Letters : journal. — 1981. — Vol. 38. — P. 429. — doi:10.1063/1.92385.
- Hyun, Kyung-Sook; Park. Breakdown characteristics in InP/InGaAs avalanche photodiode with p-i-n multiplication layer structure (англ.) // Journal of Applied Physics : journal. — 1997. — Vol. 81. — P. 974. — doi:10.1063/1.364225.
- Selecting the right APD
- Pulsed Laserdiodes and Avalanche Photodiodes for Industrial Applications