Вакуумное напыление: различия между версиями
[непроверенная версия] | [непроверенная версия] |
Строка 20: | Строка 20: | ||
== Применение == |
== Применение == |
||
PVD-процесс применяют для создания на поверхности деталей, инструментов и оборудования функциональных покрытий — износостойких, коррозионно-стойких, эрозионностойких, антифрикционных<ref></ref>, антизадирных, барьерных и т. д. Процесс используется при производстве часов с золотым покрытием. |
PVD-процесс применяют для создания на поверхности деталей, инструментов и оборудования функциональных покрытий — износостойких, коррозионно-стойких, эрозионностойких, антифрикционных<ref>1</ref>, антизадирных, барьерных и т. д. Процесс используется при производстве часов с золотым покрытием. |
||
Материалами для напыления служат диски из [[Титан (элемент)|титана]], [[алюминий|алюминия]], [[вольфрам]]а, молибден, железо, никель, медь, [[хром]]а и их [[сплав]]ов; [[ацетилен]] (для покрытий, содержащих [[углерод]]); [[азот]]. |
Материалами для напыления служат диски из [[Титан (элемент)|титана]], [[алюминий|алюминия]], [[вольфрам]]а, молибден, железо, никель, медь, [[хром]]а и их [[сплав]]ов; [[ацетилен]] (для покрытий, содержащих [[углерод]]); [[азот]]. |
Версия от 18:46, 15 мая 2010
Напыление конденсацией из паровой (газовой) фазы (англ. physical vapour deposition; сокращённо PVD) обозначает группу методов напыления покрытий (тонких плёнок) в вакууме, при которых покрытие получается путём прямой конденсации пара наносимого материала.
Различают следующие стадии PVD-процесса:
- Создание газа (пара) из частиц, составляющих напыление;
- Транспорт пара к субстрату;
- Конденсация пара на субстрате и формирование покрытия;
Введение
К группе PVD-методов относятся перечисленные ниже технологии, а также реактивные варианты этих процессов.
- Методы испарения (англ. evaporative deposition);
- Термическое испарение
- Испарение электронным лучом (англ. electron beam evaporation);
- Испарение лазерным лучом (англ. pulsed laser deposition, pulsed laser ablation): Атомы и ионы испаряются лазером, работающим в импульсном режиме.
- Испарение электрической дугой (англ. arc evaporation, Arc-PVD): Атомы и ионы освобождаются из исходного состояния материала в результате воздействия сильного тока, текущего в электрической дуге между двумя электродами, и переходят в газовую фазу.
- Эпитаксия молекулярным лучом (англ. molecular beam epitaxy)
- Распыление (англ. sputtering): Исходный материал распыляется бомбардировкой ионным потоком и переходит в газовую фазу.
- Напыление с поддержкой ионным лучом (англ. ion beam assisted deposition, IBAD)
- Имплантация ионов
Применение
PVD-процесс применяют для создания на поверхности деталей, инструментов и оборудования функциональных покрытий — износостойких, коррозионно-стойких, эрозионностойких, антифрикционных[1], антизадирных, барьерных и т. д. Процесс используется при производстве часов с золотым покрытием.
Материалами для напыления служат диски из титана, алюминия, вольфрама, молибден, железо, никель, медь, хрома и их сплавов; ацетилен (для покрытий, содержащих углерод); азот.
С помощью PVD-процесса получают покрытия толщиной до 5 мкм, обычно после нанесения покрытия поверхность не требует дополнительной обработки.
См. также
Для улучшения этой статьи желательно:
|
- ↑ 1