File:CMOS fabrication process.svg
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原始文件 （SVG文件，尺寸为512 × 2,176像素，文件大小：7 KB）
摘要
| 描述 |
English: Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram can be scale. |
| 日期 | |
| 来源 | 自己的作品 |
| 作者 | |
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| 日期/时间 | 缩略图 | 大小 | 用户 | 备注 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 当前 | 2011年10月9日 (日) 16:29 | | 512 × 2,176（7 KB） | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram is |
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