图奥莫·松托拉
| 图奥莫·松托拉 Tuomo Suntola Tuomo Suntola | |
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| 出生 | 1943年 芬兰坦佩雷 |
| 国籍 | 芬兰 |
| 母校 | 赫尔辛基理工大学 |
| 知名于 | 原子层沉积 |
| 奖项 | 千禧年科技奖（2018年） |
| 科学生涯 | |
| 研究领域 | 材料科学 |
图奥莫·松托拉（芬兰语：Tuomo Suntola，1943年—），芬兰发明家和技术领先人物，以其在材料科学方面的开拓性研究而著称。他开发了名为“原子层沉积”的薄膜增长技术，并因该技术获得了2018年的千禧年科技奖[1]。
参考文献
[编辑]- ^ 2018 MILLENNIUM TECHNOLOGY PRIZE FOR TUOMO SUNTOLA – FINNISH PHYSICIST'S INNOVATION ENABLES MANUFACTURE AND DEVELOPMENT OF INFORMATION TECHNOLOGY PRODUCTS. Technology Academy Finland. 2018-05-22 [2018-05-22]. （原始内容存档于2020-10-02） （芬兰语）.
外部链接
[编辑]- 个人网站（页面存档备份，存于互联网档案馆） （英文）
- Riikka L. Puurunen: A Short History of Atomic Layer Deposition: Tuomo Suntola's Atomic Layer Epitaxy （页面存档备份，存于互联网档案馆） （英文）
- Physics Foundations Society: Tuomo Suntola（页面存档备份，存于互联网档案馆） （英文）
- Physics Foundations Society: The Dynamic Universe（页面存档备份，存于互联网档案馆） （英文）
